上一回我們說明了 Non-Volatile Memory 的發展過程:從單次可寫入的 PROM,到可利用紫外線抹除再寫入的 EPROM,再到可以利用電子方法抹除再寫入的 EEPROM。
這一回我們會繼續說明 EEPROM 的原理,與 Flash Memory 的發展。
EEPROM
EEPROM 是可以用電子方式抹除的 EPROM,也就是說要抹除 EEPROM 的內容時,只要施加適當的電子訊號就可以,不必使用紫外線照著之類的方法。
事實上 EEPROM 的結構和原理都與 EPROM 極為接近,它同樣利用一個完全絕緣的浮動閘極來保存電荷、利用電子穿隧效應來讓電子注入或離開浮動閘極。我們來看一下 EEPROM 的寫入與抹除是怎麼操作的。
寫入時,我們要讓電子進入浮動閘極,於是我們在控制閘極上加上很高的電壓,並讓 source-drain 的通道開啟,而且維持在 0V 左右。
(圖片來源:Bird 提供)
由於控制閘極上的高電壓,控制閘極與通道之間會形成一個強大的電場,讓通道中的電子有能力藉由量子力學中的電子穿隧效應,穿過浮動閘極與通道之間的絕緣層,進入浮動閘極。當這個電場消失後,已經進入浮動閘極的電子就會被困在裡面,因為浮動閘極的周圍都是絕緣層,沒有任何的線路與它連接,所以浮動閘極裡的電子沒地方跑,會乖乖地待在裡面數年甚至數十年之久。
而當浮動閘極中有電子存在時,這些電子所形成的電場會干擾控制閘極對通道的控制能力,因此讀取時,我們會在控制閘極上加上一個沒那麼高的電壓,只要足以讓通道開啟就好;如果這時控浮動極中有電荷,它就會干擾控制閘極的電場,進而讓通道無法開啟;如果這是浮動閘極中沒有電荷,控制閘極就可以正常地讓通道開啟。
從另一個角度來看,浮動閘極會影響這個電晶體的 Vth,也就是控制閘極要讓電晶體的通道開啟時所需要的電壓,又叫 threshold voltage。
既然可以利用穿隧效應讓電子進入浮動閘極,那為什麼不同樣利用穿隧效應讓電子也可以離開浮動閘極呢?於是 EEPROM 就這樣誕生了。
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